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株式会社ナノフィルム テクノロジーズ ジャパン -DLCコーティングのパイオニア-

NanoFilm Technologies Japan Limited

ナノフィルム テクノロジーズは新しい真空成膜技術により、DLC(水素フリーのta-C膜)、MiCC膜、各種金属膜を提供します

株式会社ナノフィルム テクノロジーズジャパンは、シンガポールに本社をおく、ナノフィルム テクノロジーズインターナショナル社(NTI)の日本法人です。 本社社長のDr.Shiは、1999年にFCVA方式(*1)の商業化に成功しNTI社を設立、新しい真空成膜技術による、DLC(水素基フリーのta-C膜)、MiCC膜、各種金属膜を提供しています。 2001年には、シンガポール政府から技術革新賞「i-Award」をはじめ数々の賞を受賞しています。

 

ナノフィルムは国際特許を取得しています

弊社の開発技術は国際特許を取得し社会的にも大きな役割を担っています。FCVA方式によるDLC(水素フリーのta-C膜)(*2)は、既存のPVD方式やCVD方式により生成されるDLC膜と比較し全く異なるプロセスで成膜されております。そのほか金属とプラスチックとの離型性に優れた複合金属膜「MiCC膜(*3)」があります。FCVA方式により生成されるコーティング膜は、現在 ハードディスク産業、 精密機械産業、半導体産業などの分野で急速に採用されており、今後、自動車産業、ナノインプリト産業や生体材料分野への展開が期待されています。


*1. FCVA方式 ... Filterd CathodicVacuumArc

*2. ta-C膜(水素フリーのDLC) ... TetrahedralAmorphous Carbon

*3. MiCC膜 ... Metalnanocrystalline Compound


新着情報

2009.10.23 次世代固定砥粒加工プロセス研究会でFCVA, ta-C膜について講演。