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株式会社ナノフィルム テクノロジーズ ジャパン -DLCコーティングのパイオニア-

NanoFilm Technologies Japan Limited

FCVAテクノロジー

従来、薄膜の形成にはプラズマプロセスによるPVD法やCVD法が一般的でしたが、ナノフィルムテクノロジーズ社はアークプラズマ源を用いたイオンビーム蒸着法であるフィルター型カソーディック真空アークFCVA方式(Filtered Cathodic Vacuum Arc)を開発しました。以下にta-C膜の成膜プロセスをご紹介します。

 

ta-C膜の成膜プロセス

1 バキュームアーク放電により炭素プラズマを作り出します。
2 電磁気的空間フィルターによりイオン化した炭素のみを抽出します。
3 イオン化された炭素をスキャニングし、基材上に一様なta-Cアモルファスダイヤモンド薄膜を形成します。
4 基材にバイアスをかけることにより、イオン粒子のエネルギーレベルを可変し用途に応じたta-C膜を作ります。
   

FCVAテクノロジー

競合会社の陰極アーク技術を用いた成膜
*光学顕微鏡(X200)
競合会社の陰極アーク技術を用いた成膜
ナノフィルム社のDouble Bend FCVA技術を用いた成膜
*光学顕微鏡(X200)
ナノフィルム社のDouble Bend FCVA技術を用いた成膜